| 초록 |
투명전극은 높은 투과율과 전기전도성을 동시에 갖는 재료로서 디스플레이, 태양전지, 광학센서, 기능성 유리 등 다양한 소자의 작동에 필수적인 역할을 하고 있다. 그 중 ATO(antimony doped tin oxide)는 고온에서도 전기전도성이 열화 되지 않는 재료로 다양한 분야에서 활용되고 있다. 나노 패터닝된 투명전극은 재료의 광학적, 전기적 성능을 향상시켜 소자의 효율을 높이거나 새로운 구조 설계를 가능하게 하여 이와 관련된 연구가 활발히 이뤄지고 있다. 그러나 기존 투명전극 증착 방법인 화학기상증착(CVD), 스퍼터링(sputtering), 분무열분해(spray pyrolysis) 등의 공법은 나노 패턴 형성을 위해 다양한 장비와 마스크, 나노 템플릿 등을 활용한 복잡한 공정이 필요하다. 나노임프린팅 공법은 적은 비용으로 나노 패턴을 반복적으로 만들어낼 수 있는 기술로서 3차원 패턴을 별도의 복잡한 과정없이 one-step 공정을 통해 구현할 수 있는 기술이다. 본 연구에서는 나노임프린팅을 통해 제작 가능한 ATO 레진을 만들고 이를 통해 기존 공정보다 간단하고 저렴한 비용으로 투명전극의 나노 패턴을 구현할 수 있게 하였다. |
