| 학회 |
한국화학공학회 |
| 학술대회 |
2009년 봄 (04/23 ~ 04/24, 광주 김대중컨벤션센터) |
| 권호 |
15권 1호, p.967 |
| 발표분야 |
재료 |
| 제목 |
상압플라스마 표면처리된 TiO2-N-x 박막의 광활성 평가 |
| 초록 |
상압플라스마 공정을 이용하여 TiO2 박막의 표면을 개질하고 광촉매 활성에 대해 알아보았다. TiO2 박막은 졸-겔 법으로 제조된 TiO2 용액에 dip-coating법으로 coating한 후 소성 온도와 소성 시간을 변화시켜 가면서 제조하였다. TiO2 박막의 표면 개질 실험에 사용된 상압플라스마 가스는 질소를 사용하였고 플라스마 파워, 처리시간 등의 공정변수를 변화시키면서 실험을 수행하였다. 표면 개질 후 광촉매 활성 평가를 하기위해 UV-A와 가시광선 영역에서 methylene blue(MB) 분해실험을 수행하였고 각각의 조건에 따른 광촉매 활성의 변화에 대해 살펴보고 표면 개질 후 광촉매의 chemical state를 개질 전과 비교하여 고찰하였다. 실험 결과 개질 후의 광촉매 효율이 개질 전에 비해 UV-A와 가시광선 영역에서 모두 증가하였다. 또한 XPS분석을 통하여 질소가 도핑되었음을 확인하였으며 질소가 도핑되었을 때 가시광선 영역에서 광촉매 효율이 좀 더 증가함을 알 수 있었다. |
| 저자 |
임경택, 김경환, 김경석, 박 준, 박유정, 송선정, 조동련
|
| 소속 |
전남대 |
| 키워드 |
저온플라스마 공정; 상압플라스마; TiO2; 광촉매
|
| E-Mail |
|
| 원문파일 |
초록 보기 |
