| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2006년 봄 (05/19 ~ 05/20, 경상대학교 ) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 구조재료 |
| 제목 | EBL (Electron-Beam Lithorgaphy)을 이용한 Nanoimprinting용 Quartz Master제작 |
| 초록 | NIL (Nano-Imprint Lithography) 공정기술은 나노 구조물 제작 및 소자 개발에 있어서 저가의 비용으로 대량생산이 가능한 경쟁력 있는 제작 공정으로써 많은 관심을 받고 있다. 본 연구에서는 NIL공정에 있어 가장 중요한 Nano master를 제작하기 위하여 지금 가장 널리 사용되고 있는 EBL을 사용하였다. 또한 EBL은 Photo-optical lithography 보다 우수한 분해능으로 복잡한 device 제작이 용이하기 때문에 mask없이 lithography를 할 수 있다는 장점이 있다. Quartz 위에 hard mask 역할을 하는 Cr층 100 nm를 sputtering하여 HSQ (Fox-14와 MIBK를 3:2)인 Negative PR을 1st step:low 500RPM 5sec, 2nd step: 3000RPM 25sec의 조건으로 spin coating을 하였다. EBL을 이용하여 적정한 Dose양을 측정하기 위하여 50uC/cm2 의 간격으로 500 ~ 1400uC/cm2 조건에서 노광을 하여 50 nm-100 nm, 100 nm-200 nm, 200 nm-400 nm pattern-pitch를 Quartz에 Patterning을 하였다. Patterning을 한 후 ion miller의 각도를 변화시켜 etching을 하였다. Etching공정을 거친후 Quartz에 Patterning된 형상을 관찰하기 위하여 SEM (Scanning Electron Microscope)을 이용한 결과 800uC/cm2 와 600uC/cm2 에서 각각 200 nm, 100 nm pattern을 얻었으며, 원하는 nano master 제작공정을 최적화 하였다. |
| 저자 | 박정갑1, 정근희1, 나석민2, 서수정1 |
| 소속 | 1성균관대, 2정보통신용 신기능성 소재 및 공정연구센터 |
| 키워드 | Nano Imprint Lithography; Electron Beam Lithography; Quartz master |
