| 초록 |
Polymer는 매우 좋은 유연성, 투명성 등의 특징을 갖기 때문에 유기전자소자, flexible display(LCD, OLED) 등에 기판으로의 사용이 기대되고 있다. 이러한 소자에 polymer 기판이 사용되기 위해서는 nano~micron 크기의 패터닝이 가능하여야 한다. 그러나 polymer의 특성상 유기용매, developer solution등과의 반응성과, 비교적 높은 온도에서의 변형 등의 이유로 기존의 photolithography를 이용한 패터닝이 제한적일 수 있다. 이에 본 연구에서는 monomer 계열의 resin을 사용한 UV curing NIL을 통해 flexible PET(polyethylene-terephthalate) 필름에 70nm 이하의 line & space 패턴 형성을 연구하였다. 70nm이하의 line & space의 패턴이 있는 stamp와 PET 기판 사이에 액체 상태의 UV curable monomer resin을 0.5ul 떨어뜨린 후 약 20bar의 압력을 15분간 가해 스탬프의 패턴 사이사이에 resin을 채우고 그 나머지는 바깥으로 제거하였다. 이후 약 10분간 UV에 노광시켜 PET 기판 위에 잔여층이 없는 70nm이하의 line & spacing polymer 패턴을 형성하였다. |
