화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2003년 가을 (10/10 ~ 10/11, 부경대학교)
권호 28권 2호, p.278
발표분야 특별 심포지엄
제목 이광자 색소 유도 광중합시 Voxel 크기의 색소 농도 의존성
초록 이광자 흡수 (two-photon absorption: TPA) 현상을 보이는 물질은 테라비트 용량의 3-D 광저장 소자, 광역학 치료, 센서 보호용 소자, 고체 청색 레이저 개발, 삼차원 구조의 미세 패턴닝 등, 새로운 개념의 광소자 제작의 핵심적 재료로 이용할 수 있어 최근 집중적인 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 이광자 흡수 광중합에 의한 삼차원 미세패턴닝시 광중합용 우레탄 아크릴계 단량체에 혼합하여 사용하는 photosensitizer인 이광자 흡수 색소 9-HEH9H'TF (9,9,9’,9’’,9’’-Hexakis-(2-ethyl-hexyl)-9H,9’H,9’’H-[2,2’,7’,2’’]terfluorene) 의 첨가비율 (1.66%, 1.33%, 1.11%, 1.00%, 0.90%, 0.80%, 0.71%, 0.57%)을 조절하여 레이져 조사 시간에 따른 voxel 크기의 변화를 조사하였다. 이 결과 이광자 색소의 첨가 비율을 낮게하여 짧은 노출시간에 중합시켜 고화시킨 voxel이 가장 작은 크기로 얻어졌으며 이때의 최대 해상도는 약 100nm이었다.
저자 김문수1, 소봉근1, 이광섭1, Hong-Bo Sun2, Satoshi Kawata2
소속 1한남대, 2오사카대
키워드 이광자 흡수; 광중합; nanolithography
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