| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2005년 봄 (04/14 ~ 04/15, 전경련회관) |
| 권호 |
30권 1호, p.247 |
| 발표분야 |
기능성 고분자 |
| 제목 |
Fabrication of Nano-scale SiCN Ceramic Patterning using Photocurable Polyvinylsilazane Copolymer |
| 초록 |
Cinnamoyl chloride로 치환한 Polyvinylsilazane은 photocurable한 무기 고분자 전구체로서 전구체내에 vinyl group을 증가시켜 UV에 의해 가교를 개선하기 위하여 합성하였다. 이 무기고분자를 이용해 Soft lithography법 중의 하나인 UV-NIL과 Two-photon absorption(TPA)을 통해 나노 크기의 세라믹 패턴을 제작하였다. master로는 CD-R과 DVD가 사용되었으며 UV 가교형 무기 고분자 전구체에 약간의 개시제를 첨가하여 UV의 가교에 의해 빠른 시간에 무기 고분자 패턴을 얻었으며, 질소 환경 하에서 높은 온도(800℃)의 열처리를 거쳐 SiCN 나노 세라믹 패턴을 얻었다. 각 패턴의 크기를 비교하기 위해 각 과정의 AFM을 측정하여 비교하였고, 패턴의 형상을 비교하기 위해 SEM을 측정하였다. |
| 저자 |
이동훈, 홍난영, 김동표
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| 소속 |
충남대 |
| 키워드 |
Ceramic Patterning; Photocurable; Polyvinylsilazane Copolymer
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| E-Mail |
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