| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2005년 가을 (10/28 ~ 10/29, 건국대학교) |
| 권호 |
9권 2호 |
| 발표분야 |
정밀화학 |
| 제목 |
Photoresist monomer 합성공정 연구 |
| 초록 |
반도체 식각공정에 사용하는 ArF 엑시머 레이져용 포토레지스트는 주로 (Meth)acrylate계열의 단량체가 주로 사용된다. Meth(Acrylate)단량체의 합성은 산 촉매나 염기촉매를 사용한 Esterification이 주로 수행되나 반응속도가 느리고 부생성물을 제거해주어 하는 단점이 있다. 따라서 부생성물을 제거하는 방법과 효율적인 촉매의 사용, 부생성물 생성억제가 반응의 핵심이라 할 수 있다. 또한, 반응 종료후 생성물의 고순도 정제가 필요한데 주로 컬럼크로마토그래피나 증류를 사용할 수 있지만, 고비용과 생성물의 높은 끓는점으로 인해 감압증류를 수행해야 하는 난점이 있다. 본 연구에서는 Meth(acrylate)에 cyclohexyl기를 도입하기 위해 산 촉매와 염기촉매, organotin촉매를 사용하였으며 효율적인 부생성물 제거를 위해 Transesterification을 수행하였다. 또한 생성물의 고순도 정제를 위해 감압증류를 시도했다. 이러한 연구를 통해 앞으로 여러 가지 (Meth)acrylate계열 포토레지스트 단량체 합성에 대한 연구를 진행 할 것이다. |
| 저자 |
서민호, 신숭종, 안준태, 최부성, 이슬기, 오범종, 박융호
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| 소속 |
한양대 |
| 키워드 |
Photoresist; monomer; esterification; secondary; 포토레지스트; 모노머; 에스터화; 2차
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