| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2006년 가을 (11/10 ~ 11/11, 경희대학교(수원캠퍼스)) |
| 권호 | 10권 2호 |
| 발표분야 | 환경에너지 |
| 제목 | 폐 Photoresist Stripper로부터 고순도 유기용제 재생을 위한 증류 공정 모델링 |
| 초록 | 정보소재/반도체 제조 공정 중 Photoresist Strip공정에서는 다량의 Stripper와 Developer 혼합폐액이 배출된다. 이러한 폐액은 전량 소각처리나 미생물 처리가 가능할 정도로 희석시켜 폐수처리장에서 처리하는 것이 일반적이다. 본 연구에서는 자원 재활용 차원에서 폐액을 고순도로 재생 회수할 수 있는 증류 공정 개발을 목적으로 컴퓨터 모델링 tool(HyproTech사, HYSYSTM 3.0)을 이용하여 최적의 공정 설계를 위한 모사 결과, 모델 폐액으로부터 고순도 규격으로 유기용제의 분리 회수가 가능함을 확인하였다. |
| 저자 | 윤문규1, 구기갑2, 이문용1 |
| 소속 | 1영남대, 2서강대 |
| 키워드 | 포토레지스트; 스트리퍼; 분리정제; 증류 |
