| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1998년 가을 (10/23 ~ 10/24, 조선대학교) |
| 권호 | 4권 2호, p.2881 |
| 발표분야 | 분체공학 |
| 제목 | 졸-겔법을 이용한 SnO2 막의 제조. |
| 초록 | SnO2 초미립자는 n형의 반도체로 투명성과 전도성을 가지고 있어,다양한 용도로 사용되고 있다. 이들 용도의 대부분을 차지하는 SnO2의막은 투명성과 함께, 기판에 고르게 부착되어야 하며, 많은 경우 매우넓은 표면적을 가지는 것을 목표로 하고 있다. SnO2의 막 제조 방법가운데서 특히 dip-coating법은 초미립화된 입자 상태를 직접 이용할수 있고, 막 제조방법이 매우 단순하며, 균일한 막을 얻을 수 있고, 막 제조조건의 제어가 매우 용이하다는 점에서 많은 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 Sb-doped SnO2 초미립자의 막을 만드는 과정을 졸화와,dip-coating 공정으로 나누어 전자의 경우 입자생성 및 성장과정 및 졸화 조건을 중점적으로 살피고, 후자의 경우 막과정과 함께 이 과정에서 재료연구에서 소흘히 되어왔던 막의 표면적 및 공극률 등의 제어 문제를 중점적으로 다루었다. |
| 저자 | 유대종, 김선근 |
| 소속 | 중앙대 |
| 키워드 | sno2; tin oxides; sol-gel; thin films; porosity |
| 원문파일 | 초록 보기 |
