| 초록 |
오존 단독, 오존/과산화수소 및 오존/초음파 공정을 이용하여 페놀의 제거 및 분해과정에서 생성되는 중간물질에 대한 연구를 수행하였다. 오존 단독공정의 페놀 제거율(35%)보다 오존/과산화수소 및 오존/초음파 공정의 페놀 제거율이 각각 72%와 55%로 증가하였다. 페놀의 분해과정에서 생성되는 하이드로퀴논과 카테콜은 오존/과산화수소 및 오존/초음파 공정에서 검출되었으며, 오존 단독공정에서는 생성되지 않았다. 오존/과산화수소 공정에서 하이드로퀴논과 카테콜은 오존의 분해가 활발한 5~10분 이후, 각각 최대 7.5 ± 0.8 mg/L와 6.6 ± 0.5 mg/L의 농도를 나타내었으며, 최종 60분에서는 카테콜만 0.5 mg/L로 분석되었다. 오존/초음파 공정에서는 하이드로퀴논과 카테콜의 최고농도가 각각 1.6 mg/L와 0.9 mg/L로 나타났으며, 30분 이후 두 물질 다 검출되지 않았다. 60분 동안의 TOC 제거율은 오존 단독공정이 22%로 나타났으며, 오존/과산화수소 및 오존/초음파 공정은 45 ± 3%로 비슷하였다. |
