| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2011년 봄 (05/11 ~ 05/13, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 |
15권 1호 |
| 발표분야 |
나노 |
| 제목 |
Soft lithography 기법을 이용한 ZnO Patterning에 관한 연구 |
| 초록 |
본 연구에서는 nanosphere lithography 기법과 soft stamp-based lithography를 접목하여 pattern라인에 porous 구조를 가진 ZnO Film을제조하기 위하여전기화학적방법을 사용하여 deposition 하였다.막의 분석을 위해 AFM을 이용하여 표면 형상을 관찰하고, EQCM을 이용하여 ZnO의 양과 전기적 특성을 측정하였다.이러한 금속의porous한구조는 solar cell 등에서 electron acceptor로 사용되는 ZnO 막의 interface면적을 증가시킴으로써 device의 효율을 증가시키는데 이용할 수 있을 것이다. |
| 저자 |
우선영1, 김종민1, 장상목1, 김우식2
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| 소속 |
1동아대, 2경희대 |
| 키워드 |
Lithography; EQCM; ZnO; AFM
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