| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2002년 봄 (04/12 ~ 04/13, 서울대학교) |
| 권호 | 27권 1호, p.149 |
| 발표분야 | 분자전자 부문위원회 |
| 제목 | 옥심-우레탄 그룹을 가진 광염기발생 고분자의 광가교반응 및 포토레지스트에 응용 |
| 초록 | 전에 본 연구실에서는 자외선 조사에 의해 염기를 발생시키는 광염기 발생제는 에폭시 수지의 가교, 염료 및 형광 이미지 저장 재료로 응용할 수 있음을 보고하였다. 한편, 옥심-우레탄 그룹을 가진 고분자는 자외선을 조사하면 아민 라디칼이 생성되고 이 아민 라디칼들은 coupling 반응이 일어나게 되어 자외선을 조사한 부분만 선택적으로 가교되므로 네가형 포토레지스트로 응용할 수 있다. 본 연구에서는 광염기 발생 그룹을 가진 고분자는 MMA와 MBU를 공중합시켜 합성하였으며 이 고분자 필름에 254 또는 310 nm의 자외선을 조사시켜 아민 라디칼을 생성시킨 후 최적의 광가교와 열가교 조건에 의해 선폭이 2 ㎛인 매우 선명한 네가형 이미지를 얻을 수 있었다. |
| 저자 | 성경희, 채규호 |
| 소속 | 전남대 |
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