| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1996년 가을 (10/18 ~ 10/19, 경북대학교) |
| 권호 | 2권 2호, p.2503 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Ti-Silicide 형성에 미치는 전세정 효과 |
| 초록 | Ti-Silicide 형성에 미치는 전세정 효과를 전기적특성과 기기분석을 통하여 고찰 |
| 저자 | 정상철, 박지수, 윤여분, 노재성, 김재정 |
| 소속 | LG반도체 기반기술(연) |
| 키워드 | Precleaning; Ti-Silicide; APM cleaning; HPM cleaning; HF cleaning; Ar dry cleaning |
| 원문파일 | 초록 보기 |
