| 초록 |
마이크로 /나노 크기의 정렬된 입자 배열은 마이크로 전자소자, 광학 저장 및 정보처리 장치, 반도체 나노 입자, 센서와 같은 다양한 분야에 잠재적인 응용 가능성이 있다. 최근 패턴화된 템플릿상에 콜로이드 입자의 조립은 입자 배열을 제어함으로써 다양한 구조를 형성할 수 있기에 많은 관심을 받고 있다. 따라서 많은 연구자들은 화학적 또는 물리적으로 패턴화된 템플릿상에 규칙적인 입자 배열을 위해 침전, 건조, 탈 적심, 전기증착, 스핀 코팅, 딥 코팅 등의 방법을 사용해왔다. 그 중에서 딥 코팅법은 순차적인 조립 과정으로부터 넓은 영역에 최적의 배열을 형성할 수 있는 잠재력을 지니고 있다. 게다가 음이온성 콜로이드와 계면활성제의 정전기적 상호작용을 통한 자기조립 기법은 견고한 2차원 결정을 형성할 수 있다. 따라서 본 연구에서는 폴리스티렌 입자 및 황산도데실나트륨 (SDS)의 상호작용을 이용해 패턴화된 콜로이드 템플릿을 제작하였고, 그 구조적 특성을 분석하였다. 딥 코팅과정에서 콜로이드 입자는 수직상승 속도, 패턴의 침지방향, 패턴의 홈 폭, 입자의 크기와 같은 조절된 조건에서 SDS와의 상호작용을 통해 다양한 구조를 형성하였다. |
