| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2016년 봄 (05/02 ~ 05/04, 여수 엑스포 컨벤션) |
| 권호 |
20권 1호 |
| 발표분야 |
환경에너지_포스터 |
| 제목 |
UV/Chlorine 공정을 이용한 항생제 내성 미생물의 불활성화 및 내성 유전자 제거 |
| 초록 |
항생제의 다양한 사용 및 남용으로 인해 다양한 경로로 노출됨에 따라 항생제 내성 박테리아 (Antibiotics resistant bacteria; ARB)와 항생제 내성 유전자 (Antibiotics resistant gene; ARG)의 출현과 발달을 야기하였다. 본 연구에서는 기존 소독공정인 염소 (Chlorine)와 유전물질의 효과적인 제어가 가능한 자외선 (Ultra violet)공정을 결합함으로써 타겟인 항생제 내성 박테리아와 유전자를 제어하고자 하였다. 실험 결과, ARG의 불활성화에 있어서 ARB보다 높은 UV dose값이 필요하였고, 염소의 단독처리의 경우 ARG를 불활성화 하는데 있어서 영향을 미치지 않으나, UV/Chlorine의 결합공정의 경우, 낮은 농도의 염소일지라도 시너지 효과를 나타내었다. 이러한 향상된 불활성화 효율은 UV/Chlorine에서 생성된 radical에 의한 것으로 radical scavenger를 첨가함으로써 판단할 수가 있었다. |
| 저자 |
서영석, 이정열, 김애린, 이경근, 오병택, 조민
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| 소속 |
전북대 |
| 키워드 |
UV/Chlorine; Antibiotic resistant bacteria; Antibiotic resistant gene; Salmonella typhimurium
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