학회 |
한국공업화학회 |
학술대회 |
2012년 가을 (10/31 ~ 11/02, 대전컨벤션센터) |
권호 |
16권 2호 |
발표분야 |
포스터-고분자 |
제목 |
The Effect of Sulfonation Degree on Gas Permeability of Polysulfone Membrane Based on Biphenol and Fluorene |
초록 |
많은 기체 분리용 고분자 막 재료 중에서 폴리술폰계 고분자는 우수한 물성 등으로 인하여 다양한 분야에서 이용되어져 왔다. 고분자 분리막의 화학적 개질 중 고분자 사슬의 술폰화는 극성기체의 용해도 계수를 증가시킴으로서 높은 CO2 /N2 선택도를 가지게 한다. 하지만 고분자사슬의 상호작용에 의해 투과도가 감소하는 경향을 보인다. 따라서 본 연구에서는 biphenol 기를 가지는 폴리술폰 고분자막의 술폰화도에 따른 영향과 높은 fractional free volume을 가져 높은 투과도를 보이는 fluorene기의 폴리술폰 고분자의 술폰화도에 대한 영향을 조사하였다. 제조된 막은 기체 투과특성과 열적 특성 등이 평가되었다. |
저자 |
이혜진, 김득주, 남상용
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소속 |
경상대 |
키워드 |
gas transport property; sulfonation; fluorene; high permselectivity
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E-Mail |
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