| 초록 |
수십nm로부터 수천nm의 두께를 갖는 박막고분자 필름은 오래전부터 외장 및 부식방지용 라텍스 코팅으로 사용되어 왔으며 최근에는 극소전자장치제조, 반도체패키징, 분리막, 투약조절용 매트릭스의 특수용으로 그 용도가 확대되고 있다. 패키징, 코팅의 용도로 쓰이는 고분자 박막필름은 주위의 화학성이 있는 용매의 침투에 의해 기계적 물성의 저하를 가져오며 코팅에 균열이 가고 코팅된 필름이 녹아나는 용해가 일어나므로 원하는 용도로서의 수명이 제한되며, 분리막 및 투약조절용 박막고분자 필름에서는 용매의 확산과 그에 따른 필름의 팽윤, 스트레스 이완이 그 성능을 좌우하는 중요한 인자가 된다. laser interferometer기술은 기판표면으로부터 석출 또는 제거되는 동안의 고체필름의 두께변화를 모니터하는 유용한 도구가 되어왔다. CVD(Chemical Vapor Deposition) 나 RIE(Reactive Ion Etching) 그리고 Microlithographic image develoment같은 공정에서는 잘 깨지지않고 다소간 연속적인 형태로 monitor될 수 있도록 수 micron또는 그 보다 작은 필름두께를 요구한다. laser interferometer는 간단하게 용해속도를 측정하는 것 외에도 더 많은 정보를 얻어낼 수 있어 필름의 굴절율등을 반사된 빛에서 oscillation의 진폭으로부터 결정될 수 있다. 본 연구에서는 laser interferometer를 사용하여 고분자물질 및 용매의 성질에 따라 용매의 확산침투 및 필름의 용해과정을 살펴보고자 한다.
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