화학공학소재연구정보센터
학회 한국고분자학회
학술대회 2008년 봄 (04/10 ~ 04/11, 컨벤션 뷰로(대전))
권호 33권 1호
발표분야 고분자 가공/복합재료
제목 Cure Kinetics and Mechanical Properties of Low CTE Buildup Film for FCBGA Circuit Board
초록 CPU 기판 등 package 기판으로 사용되는 FCBGA는 전자제품의 경박단소화에 따라 점차 소형화, 박형화되어 가고 있으며, 미세패턴의 구현이 가능하고 warpage 특성이 우수한 재료가 요구되고 있다. FCBGA의 미세패턴은 buildup (B/U) 필름을 이용한 Semi-Addtive Process (SAP) 방식에 의해 형성되는데, 이 때, B/U 필름의 CTE 특성은 최종 기판의 warpage 특성에 영향을 준다. 따라서, chip실장에 따른 warpage 현상을 최소화시키기 위하여 CTE가 낮은 B/U 필름의 개발이 필요하다. 본 연구에서는, CTE 특성을 낮춘 B/U 필름의 경화거동과 그에 따른 열적, 기계적 특성에 대해 연구하였다. 이를 통해, B/U 필름 lamination 후 SAP 방식에 의한 회로 형성 과정 중, 디스미어, 화학동, 전기동으로 이루어지는 도금 공정의 전과 후에 행해지는 precure/postcure의 최적 경화 process를 도출할 수 있었고, 기존 B/U 필름에 비해 현저히 낮은 CTE 특성과 우수한 peel strength를 확인할 수 있었다.
저자 이화영1, 조재춘2, 임성택3, 이근용1, 오준록2
소속 1삼성전기, 2중앙(연), 3eMD센터
키워드 low CTE; cure kinetic; buildup film; circuit board
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