| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2005년 봄 (04/22 ~ 04/23, 여수대학교) |
| 권호 | 11권 1호, p.1029 |
| 발표분야 | 촉매 및 반응공학 |
| 제목 | 나노 기공복제법으로 제조한 광촉매를 이용한 3.5-dcp 광촉매분해반응 |
| 초록 | 직접 나노기공 복제법(Direct Nano-Replication Technique)을 이용해 일정 크기로 제어된 기공을 가지는 산화물 반도체(TiO2, Fe2O3, TiO2-ZrO2, Fe2O3-ZrO2 )광촉매를 제조하였다. 실리카가 나노기공 복제를 위한 주형으로 사용되었으며 합성된 산화물에서 복제된 기공은 Low-angle XRD와 TEM(Transmission Electron Microscopy)을 이용하여 관찰하였다. 나노기공을 가지는 반도체 산화물의 광촉매적 활성을 실험하기 위해 광원으로 제논램프(100mW/cm2)를 이용하여 3.5-DCP(3.5-dichlophenol)의 액상 광분해반응을 실시하였으며 반도체물질, 반응 시간, 그리고 촉매의 농도에 따른 광촉매 활성을 얻었다. 3.5-DCP 광촉매분해반응 후 반응물과 생성물의 분석은 HPLC(High Pressure Liquid Chromatography, 이동상 ACN:H2O=50:50, prevail. c18 역상컬럼)로 수행하였으며 검량선을 이용해 정량 분석하였다. 반응활성 비교결과 나노기공 복제법에 의해 얻어진 반도체 산화물의 광촉매 활성이 상업용 광촉매로 알려진 P-25보다 우수하였다. |
| 저자 | 김우영1, 이현경1, 김지만2, 정광덕3, 주오심3 |
| 소속 | 1상명대, 2아주대, 3한국과학기술(연) |
| 키워드 | 3.5DCP; photo-oxidation; Direct Nano-Replication Technique |
| 원문파일 | 초록 보기 |
