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번호	제목
9	3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
8	3D feature profile simulation coupled with realistic surface kinetic chemical reaction for pulsed etch process in fluorocarbon plasmas 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
7	Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
6	Plasma surface reaction modeling coupled with global bulk plasma model in fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
5	Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
4	GPU based 3D feature profile simulation for ultra-high deep etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
3	3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C₄F₆/Ar/O₂ plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
2	3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etching processes 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회
1	Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회