| 번호 | 제목 |
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Use of heptafluoroisopropyl methyl ether for plasma etching of SiO2 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
| 3 |
Etch mechanism of Si3N4 in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
| 2 |
Effect of F/C ratio in discharge gases on the angular dependence of etch rates of SiO2 조성운, 김창구 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
| 1 |
The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
