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번호	제목
29	RF magnetron sputter로 성장시킨 고유전 TiO₂:SiO₂ 박막의 특성(Properties of high-k TiO₂:SiO₂ films grown by RF magnetron sputter) 김성연, 오병윤, 함문호, 명재민 한국재료학회 2006년 봄 학술대회
28	The Growth of the lanthanum oxide thin films for application as a gate oxide by plasma enhanced atomic layer deposition Jun-Ho Moon, Myoung-Gyun Ko, Eun-Joo Lee, Sang-Kyun Park, Min-Soo Hong, Yoo-Jin Jeon, Jong-Wan Park 한국재료학회 2006년 봄 학술대회
27	Low-voltage Organic Field Effect Transistors with Typical Polymer as Ultrathin Gate Dielectrics 양상윤, 김세현, 신권우, 전하영, 박찬언 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회
26	Comparative study of ultra-thin HfSi_xO_y and HfSi_xO_y/SiO₂ gate dielectrics grown by self-limiting surface reaction between Hf(NC₂H₅)₄ and Si(OC₄H₉)₄precursor 김재현, 용기중 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
25	Electrical properties of MIM capacitor with La₂O₃ dielectrics deposited by ALD 조상진, 하정숙, 김수영, 박원태, 강동균, 김병호 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
24	다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구\|The Characteristics of HfO₂ Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
23	SAMs 패턴에서의 선택적 증착을 이용한 MIS capacitor 제작\|Fabrication of MIS Capacitors by Selective Deposition Technique on Patterned SAMs 원상희, 오태관, 김지영 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
22	SOI wafer Pseudo MOS Transistor에서의 SOI 및 BOX Thickness에 따른 trap density의 종속성\|Dependency of SOI & BOX Thickness on trap density of SOI wafers in Pseudo MOS Transistor 손주환, 민병호, 권종성, 박재근 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
21	MOMBE로 성장한 고유전 HfO₂ 박막의 화학적, 전기적 특성\|Properties of high-k HfO₂ films grown by MOMBE 문태형, 최지혁, 명재민 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
20	Ru/Ti bilayer metal electrode를 이용한 게이트 일함수 조절\|Workfunction tunability of Ru-Ti bilayer structure for metal gate electrode 고한경, 이태호, 박인성, 김경래, 이상설, 안진호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회