번호 | 제목 |
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선택적 표면처리를 이용한 용액 공정 기반 플렉서블 박막 트랜지스터의 특성 (Properties of solution-processed flexible thin film transistors prepared by selective surface modification) 안희주, 김종우, 명재민 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
15 |
반도체 습식 세정 기술 개발 동향 및 계면화학을 응용한 세정제 개발 송명근 한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
14 |
MACE를 이용한 Ge 패터닝 조용진, 이승효, 임상우 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
13 |
Preparation and Properties of Glass Protective Coating Ink Resistant to acids 양지우, 서아영, 이철우 한국고분자학회 2014년 봄 학술대회 |
12 |
Characterization of UV-curiable Acrylate ink with the Acid Resistance as a Glass Protective Coating Ink 양지우, 서아영, 이철우 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
11 |
광흡수 층을 적용한 인쇄회로기판제조공정 박영웅, 이인학, 최보람, 이상경, 임실묵 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
10 |
평판디스플레이용 글라스의 slimming을 위한 환경친화형 식각액 전휘, 김정민, 박태문, 고영옥, 이철태 한국공업화학회 2011년 가을 학술대회 |
9 |
초박판 글라스의 제조 및 플렉시블 디스플레이용 소재로의 적용 강동구, 김진배, 김호태 한국공업화학회 2010년 가을 학술대회 |
8 |
An alternate wet etching of glass by using ammonium hydrogen fluoride base etchant 박현정, 이진수, 고영옥, 이철태 한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
7 |
초임계 이산화탄소를 이용한 효율적인 수용성 웨이퍼 에칭 residue의 제거 방법 김승호, 임권택, 정재목, 이민영 한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |