| 298 |
Mo 하부전극을 통한 Wake-up 현상 억제 Hf0.5Zr0.5O2 캐패시터의 제작 및 특성 평가
유근택, 김세현, 박주용, 이동현, 박민혁
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 297 |
원자층 증착법(ALD)을 이용한 Vanadium oxide 박막 제작 및 전기적 특성 분석
이왕곤, 서형탁, 최효빈, 신희철, 안영환, 김지웅
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 296 |
Halogen-free Atomic Layer Etching of Metal Oxides
이정빈, 노재홍, 박태주, 김우희
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 295 |
원자층 증착 공정으로 형성된 SnO2 박막에 대한 Al2O3 슈퍼사이클 효과
김지웅, 이왕곤, 안영환, 김지수, 서형탁
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 294 |
Control of electric characteristic of atomic layer deposited Al-doped SnO2 using annealing process
이성권, 김지수, 이도욱, 김병욱, 전형탁
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 293 |
Atomic layer deposition of Ru thin films using novel Ru(Ⅱ) precursor with enhanced reactivity
오승훈, 여승민, 박현빈, 박태주, 정택모, 엄태용
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 292 |
The comparison of Atomic Layer Deposited nickel Oxides using Ni(dmamb)2 precursor and H2O, O3 oxidants.
조영준, 장효식
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
| 291 |
Optimal atomic layer deposited Al-doped ZnO overlayers for charge transport enhancement in Cu2O photocathodes
이학현, 김동수, 최지훈, 조형균
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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원자층 증착 공정(Atomic Layer Deposition)의 유용성 확대 현황 및 전망
김도형
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Al2O3-coated Ni/CeO2 nanoparticles as coke-resistant catalyst for dry reforming of methane
양의섭, 안광진
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
