| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 5 |
Control of the roughness on the sidewall of Si trenches during the Bosch process 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
| 4 |
The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 3 |
Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas 조성운, 김창구 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
| 2 |
Characteristics of fluorocarbon films deposited in perfluorocarbon and unsaturated fluorocarbon plasmas 조성운, 지정민, 김창구 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
| 1 |
Characteristics of Fluorocarbon Thin Films Deposited in C4F8 and C4F6 Plasmas 권혁규, 지정민, 김창구 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
