| 9 |
Characteristics of silicon oxy-carbide deposited by RPALD using OMCTS
이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
| 8 |
Al2O3 Thin Fim Density Dependence for Passivation Layer
신석윤, 함기열, 이주현, 서원덕, 전형탁
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
| 7 |
Characteristics of TiO2 thin film by remote plasma atomic layer deposition using a novel Ti precursor
Chunho Kang, Heeyoung Jeon, Woochool Jang, Hyunjung Kim, Hyoseok Song, Honggi Kim, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
| 6 |
Effects of Al2O3/ZrO2 Nanolaminate Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Moisture Barrier Properties
최용혁, 전형탁, 이상헌, 최학영, 신석윤, 박주현, 정현수, 함기열, 양희왕, 오주홍
한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
| 5 |
Improvement in the bias stability of IGZO thin film transistors using Al2O3 buffer layer growth on Si3N4 dielectric layer
박주현, 방석환, 이승준, 고영빈, 최학영, 신석윤, 김지훈, 함기열, 이상헌, 전형탁
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
| 4 |
MOCVD법과 RPALD법을 이용한 금속유도결정화법에 관한 연구
김명식, 홍진원, 배규식
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
| 3 |
Remote Plasma ALD법을 이용한 코발트 금속유도 결정화법에 관한 연구
홍진원, 김명식, 이근우, 배규식
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
| 2 |
Study on characteristics of cobalt film deposited by Remote Plasma ALD method
김근준, 이근우, 한세진, 정우호, 배규열, 전형탁
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
| 1 |
다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods.
김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
