화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 The Curing Effects of Low-k Material Using Reactive TMSCD as a Porogen.
이희우, 안건우, 민성규, 문봉진, 윤도영
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회
3 Effect of UV Pretreatment on the Formation of Nanoporous Low Dielectric Thin Films
김수한, 류이열, 한준희, 차국헌
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회
2 CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma
황성욱,이겨레,민재호,문상흡|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
1 저 유전 물질로의 적용을 위한 다중 블
황소희,마성원,황승상,홍순만,이응찬,김수현,김광웅,최창균|S.H. Hwang,S. Ma,S.S. Hwang,S.M. Hong,E.-C. Lee,S.H. Kim,K.U. Kim,C.K. Choi
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회