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구리의 화학·기계적 연마공정에서 연마속도와 표면 평탄도에 미치는 화학반응의 영향|EEffects of the Chemical Reaction on the Polish Rate and Surface Roughness in the Copper CMP
배선혁, 김도현|Sun Hyuk Bae, Do Hyun Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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전자소자기술을 위한 in-situ 저압 UV-O2/O3 스트리핑 공정변수에 대한 연구|Process Variables of in-situ Low Pressure UV-O2/O3 Stripping for Electronic Device Technology
선민철, 권성구, 김도현|Min Cul Sun, Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Ordered Nanoporous Materials with Microporous Crystalline Frameworks
권용구, 김건중*, 최병두, 김도현
한국고분자학회 2001년 가을 학술대회 |
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석탄-물 혼합연료의 유변물성과 수열처리 효과|Rheological Properties of Coal-Water-Mixture and Effect of Hydrothermal Treatment
김동호, 조재설, 김도현|Dong Ho Kim, Jae Seol Cho, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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상용화된 성장핵을 사용한 웨이퍼 폴리싱용 실리카 슬러리의 제조|Preparations of wafer polishing silica slurry by using commercial slurry
소재현, 배선혁, 오민호, 양승만, 김도현|Jae-Hyun So, Sun Hyuck Bae, Min-Ho Oh, Seung-Man Yang, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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실리콘 웨이퍼의 폴리싱 공정에서 웨이퍼의 제거속도에 미치는 공정변수의 영향|Effect of process parameters on the removal rate of wafer surface in the polishing process of silicon wafer
배선혁, 김도현|Sun Hyuck Bae, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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석탄 표준화 보일러(500MW)의 운전 최적화를 위한 모델링 연구|A Study on Modeling for Optimization of Operation of Coal-fired Standardized Boiler (500MW)
김영석, 김도현|Young Suk Kim, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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쵸크랄스키 공정에서 결정직경에 미치는 성장변수의 영향|Effects of Growth Parameters on the Crystal Diameter in Czochralski Process
왕종회, 김도현|Jong Hoe Wang, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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무전해 도금에 의한 고분자 표면의 금속코팅에 관한 연구|A study on metal coating on polymer surface by electroless plating
허호, 김도현|Ho Hur, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
