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번호	제목
9	Electrical properties of Zr-doped TiO₂ thin films for DRAM capacitors 권 혁, 박현희, 하정숙 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
8	Design of 45 nm Silicon-on-insulator (SOI) n-metal―oxide―semiconductor Field-effect Transistor (MOSFET) Floating Body Cell (FBC) for Optimal Memory Characteristics Jin-Woo Choi, Young-Hwan Ryu, Seong-Je Kim, Tae-Hun Shim, Jea-Gun Park 한국재료학회 2008년 봄 학술대회
7	원자층 증착법으로 증착시킨 SrO-RuO₂ 적층구조의 열처리에 의한 perovskite-SrRuO₃형성 및 DRAM 캐패시터 전극특성에 관한 연구 안지훈, 김성욱, 오흥룡, 김지혜, 강상원 한국재료학회 2008년 봄 학술대회
6	Thermal Stability of Ruthenium and Iridium Thin Films Prepared by Atomic Layer Deposition 김성욱, 권세훈, 강상원 한국재료학회 2007년 가을 학술대회
5	Thermal stability of chemical vapor deposited Ru thin films on TiN substrate and SiO₂ substrate 김범석, 김형준 한국재료학회 2007년 봄 학술대회
4	초미세 메모리 커패시터의 전극형성을 위한 식각 기술\|Patterning issues for the fabrication of sub-micron memory capacitors' electrodes 김현우 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
3	(Bi,La)Ti₃O₁₂ 강유전체 물질을 갖는 전계효과형 트랜지스터의 제작과 특성연구\|Preparation and Properties of Field Effect Transistor with (Bi,La)Ti₃O₁₂ Ferroelectric Materials 서강모, 조중연, 장호정 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2	졸-겔법에 의한 0.9Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.1PbTiO3(PMN-PT) 박막 제조\|The Fabrication of 0.9Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.1PbTiO3(PMN-PT) Thin Film via Sol-gel Method 김지광, 임동규, 김종성, 신영화\|Jikwang Kim, Dongkyu Lim, Jongsung Kim, Younghwa Shin 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회
1	LPCVD로 성장된 Ta2O5 박막 및 커패시터 특성\|Thin film capacitors of Ta2O5 grown by LPCVD 최영석, 조성민\|Young-Suk Choi, Sung Min Cho 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회