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충격기류 탈진방식의 탈진공기 분사유량 및 압력분포 특성|Characteristics of Pulse Air Volume and Peak Pressure Distribution in Pulse-Jet Cleaning System
임정환, 박영옥, 손재익|J. H. Lim, Y. O. Park, J. E. Son
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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승화성 고체 미립자를 이용한 표면세척공정에 관한 연구|Research of surface cleaning process by sublimate solid particles
윤철남, 김선근|Cheol-Nam Yoon, Sun-Geon Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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교차흐름 한외여과에서의 펄스전기장에 의한 농도분극의 제어|Control of Concentration Polarization Using Pulsed Electic Field in Cross-flow Filtration
김형률, 이기세|Hyeong Ryul Kim, Kisay Lee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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자기응집막을 이용한 세라믹 박막 제조|Preparation of Ceramic Thin Films Self-Assembled Arrays.
조규진, 김선미, 문일식, 민경신, 아재석, 정경택, 설용건|Gyoujin Cho, Sun-Mi Kim, Il-Shin Moon, Kyung-Shin Min, Jae-Suk Lee, Kyeong
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Ti-Silicide 형성에 미치는 전세정 효과|The Effect of Precleaning Treatments on The Formation of Ti-Silicide
정상철, 박지수, 윤여분, 노재성, 김재정|Sang-Chul JUNG, Ji-Soo PARK, Yeo-Boon YOON, Jae-Sung ROH, Jae-Jeong KIM
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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Silicon Wafer 의 Hydrogen Plasma Dry Cleaning 시 수소 원자 재결합 반응
이진혁, 김영채
한국화학공학회 1996년 봄 학술대회 |
