화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 Preparation of HfN Thin Film by Plasma Assisted Atomic Layer Deposition using tetrakis(dimethylamino)hafnium
김은정, 김도형
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
10 Pd deposited by atomic layer deposition on TaN substrate and Cu fill-up of the damascene structure using electroless deposition
김영순, Jay J. Senkevich, Toh-Ming Lu, 양회창, 김길성, 신형식
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회
9 MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE
문태형, 함문호, 김명석, 윤일구, 명재민
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
8 Dichlorobis[bis(trimethylamido)]hafnium과 물을 이용한 Hafnium Silicate의 단원자층 화학증착
남원희, 강상우, 이시우, 이정현, Steven. M. George
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
7 Atomic Layer Deposition of HfO2 Using Hf(O-iPr)4 and O2
김정찬, 허정식, 조용석, 문상흡
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
6 Preparation and Characterization of ZnO Nano Films by Atomic Layer Deposition
이 석, 최락준, 한윤봉
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
5 Atomic layer deposition으로 증착된 Ta2O5 박막의 전도기구에 대한 UV ozone annealing 효과|Effects of UV ozone annealing on conduction mechanism in Ta2O5 thin films deposited by atomic layer deposition
엄다일, 전인상, 노상용, 황철성, 김형준
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
4 템플레이트에서 원자층 증착기술을 이용한 금속산화물 나노튜브의 제작방법|The novel Fabrication method of the metal oxide nanotube on template using atomic layer deposition
정대균, 박노헌, 성명모, 이재갑, 신현정, 김지영
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
3 고유전체 전극물질로서의 TaN 응용가능성 연구|Research on applicability of TaN as an electrode material for high-k dielectrics
김영순, 이태호, 안진호
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2 ALD법으로 증착된 실리콘 절연박막의 물리적·전기적 특성|Physical and Electrical Characteristics of Silicon Dielectric Thin Films by Atomic layer Deposition
한창희, 이주현, 김운중, 이원준, 나사균
한국재료학회 2003년 가을 학술대회