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번호	제목
8	HfO₂/SiO_xN_y/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성\|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO₂/SiO_xN_y/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
7	Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성\|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions 김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
6	Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구\|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method 김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
5	다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구\|The Characteristics of HfO₂ Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
4	원거리 플라즈마 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착한 ZrN 확산방지막의 특성에 관한 연구\|Characteristics of ZrN deffusion barrier deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition method 황윤철, 조승찬, 김인배, 김양도, 김주연, 전형탁 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
3	실리콘 표면 유기물과 산화막 제거를 위한 플라즈마 효과\|Effect of plasma for the removal of organic and oxide layer on Si surface 소 현,김의열,조일래,전형탁,김영채\|Hyun Soh,Ui Yeol Kim,Il Lea Cho,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
2	환경친화적 O2,H2 플라즈마를 이용한 Photoresist 세정효과\|The Effects of Photoresist Cleaning Using Envronmetal-friendly O2, H2 plasma 소현,김의열,김양도,전형탁,김영채\|Hyun Soh,Ui Yeul Kim,Yangdo Kim,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
1	저온 원거리 플라즈마를 이용한 Si 기판의 유기오염물 제거\|The Removal of Organic contaminants Using Low Temperature Remote Plasma on Si substrage 소현, 이기형, 서형탁, 전형탁, 김영채\|Hyun Soh, Ki Hyung Lee, Hyungtack Seo, Hyeongtag Heon, Young Chai Kim 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회

번호	제목
8	HfO₂/SiO_xN_y/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성\|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO₂/SiO_xN_y/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
7	Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성\|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions 김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
6	Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구\|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method 김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
5	다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구\|The Characteristics of HfO₂ Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
4	원거리 플라즈마 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착한 ZrN 확산방지막의 특성에 관한 연구\|Characteristics of ZrN deffusion barrier deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition method 황윤철, 조승찬, 김인배, 김양도, 김주연, 전형탁 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
3	실리콘 표면 유기물과 산화막 제거를 위한 플라즈마 효과\|Effect of plasma for the removal of organic and oxide layer on Si surface 소 현,김의열,조일래,전형탁,김영채\|Hyun Soh,Ui Yeol Kim,Il Lea Cho,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
2	환경친화적 O2,H2 플라즈마를 이용한 Photoresist 세정효과\|The Effects of Photoresist Cleaning Using Envronmetal-friendly O2, H2 plasma 소현,김의열,김양도,전형탁,김영채\|Hyun Soh,Ui Yeul Kim,Yangdo Kim,Hyeongtag Jeon,Young Chai Kim 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
1	저온 원거리 플라즈마를 이용한 Si 기판의 유기오염물 제거\|The Removal of Organic contaminants Using Low Temperature Remote Plasma on Si substrage 소현, 이기형, 서형탁, 전형탁, 김영채\|Hyun Soh, Ki Hyung Lee, Hyungtack Seo, Hyeongtag Heon, Young Chai Kim 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회