화학공학소재연구정보센터
번호 제목
7 ECR 상온화학증착법에 의해 PET 기판에 제조된 구리 박막의 표면전처리에 따른 접착력 특성|Effect of surface modification on adhesion of copper films on PET prepared by ECR-MOCVD
현진, 변동진, 이중기
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
6 TEOS/O2 플라즈마 반응기에서 실리카 미립자 성장분석|Analysis on Silica Particle Growth in TEOS/O2 Plasma Reactor
홍성택, 김동주, 김교선|Sung-Taik Hong, Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
5 산소플라즈마를 이용한 ITO(indium-tin-oxide) 표면처리 특성에 관한 연구|Studies on surface characterization of ITO(indium-tin-oxide) using O2 plasma treatment in OLEDs(organic light emitting devices)
김형식,이준호,이태진,김정문,박진호|Hyoungsik Kim,Junho Lee,Taejin Lee,Jeongmoom Kim,Chinho Park
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
4 산소플라즈마를 이용한 폴리우레탄의 표면 개질|Surface Modification of Polyurethane by Oxygen Plasma Treatment
장 얀,명성운,최호석,김인호,최재혁|Yan Zhang,Sung-Woon Myung,Ho-Suk Choi,Inho Kim,Jae-Hyuk Choi
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
3 ITO 표면의 O2 플라즈마 처리를 이용한 OLED의 성능 향상에 관한 연구|Studies on efficiency improvement of OLEDs using O2 plasma treatment on indium-tin-oxide
김형식, 이준호, 이태진, 김정문, 박진호|Hyoungsik Kim, Junho Lee, Taejin Lee, Jeongmoom Kim, Chinho Park
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
2 N2 및 O2 플라즈마를 이용한 SiO2 2단계 증착 공정|SiO2 two step deposition using N2 or O2 plasma treatment
이청, 이시우|Chung Yi, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
1 He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property
김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회