| 511 |
Sequential removal of ligands from TiCl4 on SiO2 surface during atomic layer deposition: a DFT study
박정우, 문지원, 진유성, 박형순, 정성웅, 송봉근
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
| 510 |
Initial nucleation for atomic layer deposition (ALD) of group III oxides: a quantum chemical comparative study
ANSARI ABU SAAD, Shimeles Shumi Raya, 송봉근
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
| 509 |
New SiO2@V2O5@Al2O3 core@shell catalysts for selective oxidation of methane to formaldehyde
양의섭, 이준경, 김동현, 정윤석, 곽자훈, 박은덕, 안광진
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
| 508 |
Low temperature high performance In-Ga-Sn-O TFTs on flexible substrates
김보성, 오창용, 장현재, 김형욱, 정현재
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 507 |
Oxide TFT Technology and process for next generation display
임준형
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 506 |
SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition
Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 505 |
Structural and Electrical characteristics of Low-k Silicon Oxycarbide thin film deposited via Remote Plasma Atomic Layer Deposition
Yurim Kwon, Chanwon Jung, Jongwoo Kim, Suhyeon Park, Byunguk Kim, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 504 |
The Formation of ZnS Passivation Layer by Atomic Layer Deposition for Cu2ZnSn(S,Se)4/Zn(O,S) Thin Film Solar Cell
정희지, 허재영
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 503 |
Compositional and electrical modulation of niobium oxide thin films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
이승환, 박진성
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 502 |
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposited Silicon dioxide with divalent Si precursor [N, N'-tert-butyl 1, 1 dimethylethylenediamine silylene]
이정훈, 이승환, 김혜미, 박진성
한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
