53 |
Growth Condition and Fabrication of Device for AlGaN/GaN Hetero-strucure by MOCVD Jaehong Choi, Hyunkyu Park, Jihye Kim, Jinwoo Jung, Dongjin Byun 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
52 |
노즐 형태의 HCRT MOCVD 반응기에서 유체 흐름이 막 표면 조도 미치는 영향 김경수, 정일현 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
51 |
The Characteristic Analysis of OLED using various surface analysis techniques 이주한 한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
50 |
Control of the electrical and adhesion properties of metal/organic interfaces with self-assembled monolayers 조정호, 임정아, 한중탁, 장호원, 이종람, 조길원 한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
49 |
AlGaN/GaN 이종접합구조의 Al 함량에 따른 I-V 특성.|I-V property of hetero-structure AlGaN/GaN as Al contents growth on the sapphire(0001) by MOCVD. 박현규, 진정근, 연대흠, 최재홍, 권영석, 이종한, 변동진 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
48 |
새로운 티타늄 알콕사이드 선구물질을 이용한 산화 티타늄 박막의 제조|MOCVD of TiO2 Films Using New Alkoxide Precursor, Ti(mp)4 이은석, 조원태, 박미현, 안기석, 정택모, 김창균, 이선숙, 이영국, 김윤수, 이내응 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
47 |
사파이어 기판 위 MOCVD 성장된 GaN 이종에피층의 고온 성장온도에 따른 변형과 응력|Stresses and strains in GaN heteroepitail layers grown on sapphire substrate with various growth temperature by MOCVD 장경화, 권명석, 조성일 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
46 |
MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 화학적, 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE 문태형, 최지혁, 명재민 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
45 |
MOCVD를 이용하여 sapphire(0001)에 성장한 Al 함량에 따른 AlGaN/GaN의 특성|Properties of AlGaN/GaN as Al contents grown on sapphire(0001) by MOCVD 박현규, 강호재, 진정근, 연대흠, 최재홍, 김지원, 변동진 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
44 |
GaOOH 선구물질을 이용한 GaN 박막 성장|Growth of GaN thin-film using GaOOH precursor 이재범, 김선태 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |