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Modification of barrier height of metal and silicon with nanoparticles and insulator
김현정, 장우출, 임희우, 권영균, 방민욱, 조해원, 정찬원, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition
권영균, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
| 6 |
Enhanced crystallinity of VO2 thin film by post annealing
김범식, 장우출, 정찬원, 조해원, 김현정, 임희우, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
| 5 |
3Characteristic of the contact resistivity of the metal/insulator/silicon structure
김현정, 장우출, 임희우, 권영균, 조해원, 정찬원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer
장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices
이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer
김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Characteristics of silicon oxy-carbide deposited by RPALD using OMCTS
이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
