| 9 |
Synthesis and Application of Novel Photoacid Generator Bounding Polymer Resist for Electron Beam Lithography
강하나, 이해원, 권오정, 손경화
한국고분자학회 2012년 봄 학술대회 |
| 8 |
Triphenylsulfonium Triflate Bound- and Blended-Polymer Resists for Electron Beam Lithography
권오정, 김민정, 손경화, 강하나, 김은광, 이해원
한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
| 7 |
Synthesis and Application of Triphenylsulfonium triflate Containing PMMA-Based Resist for Lithography
손경화, 김민정, 이해원
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 6 |
Photoacid Generator Bound PMMA-Based Resist for nanostructure Fabrication
이해원, 김민정, 손경화, 해먼트 수렌드라 몬드카
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 5 |
Synthesis of Novel Chemically Amplified Photoacid Generator Containing Resist Polymer for Fabrication of Positivetone Nanostructure
김민정, 손경화, 권오정, 강하나, 해먼트 수렌드라 몬드카, 이해원
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 4 |
Synthesis of novel terpolymer bounded PAGand Their Application as Electron beam Resists
김민정, 이고은, 유재범, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2010년 봄 학술대회 |
| 3 |
Synthesis of Highly-Sensitive Resists Containing Photoacid generator for Electron Beam Lithography
김민정, 유재범, 이고은, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
| 2 |
Synthesis of Photoacid Generator Bound Polymer Resist for Atomic Force Microscope Lithography
이고은, 아쇽나뉴사가, 김민정, 손경화, 이해원
한국고분자학회 2009년 가을 학술대회 |
| 1 |
Synthesis and Characterization of OTFT Materials Containing Fused Aromatic
김형선, 손경화, 김윤희, 도이미, 권순기
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
