화학공학소재연구정보센터
번호 제목
71 다양한 펄스 플라즈마를 이용한 식각 기술 향상을 위한 연구
홍종우, 오지수, 김희주, 김정완, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
70 Study on Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction (MTJ) Materials using Reactive Ion Beam Etching (RIBE) for MRAM devices
김예은, 김두산, 김주은, 길유정, 장윤종, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
69 Direct Nanoparticle Coating without Toxic Materials by Atmospheric Pressure Plasma Jet
장윤종, 문무겸, 김동우, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
68 3D NAND 식각 기술에 적용될 신규 L-HFC 식각 기술 연구
탁현우, 성다인, 홍인표, 문룡, 김동우, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
67 중성빔을 이용한 블록공중합체 패턴의 저손상 식각에 관한 연구
장원준, 김교운, 오지수, 김희주, 홍종우, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
66 유도결합 리모트 플라즈마를 이용한 MoS2 의 chlorine doping 및 광전특성 제어에 관한 연구
강지은, 김기현, 지유진, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
65 Poly Si Nano-Pattern Etching Using Cl2/Ar Synchronized, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas
김희주, 김교운, 홍종우, 오지수, 김정완, 이채린, 염근영
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
64 Study on Etch Characteristics of PRAM material using Hydrogen based Gases
길유정, 김두산, 김주은, 염근영
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
63 Si Nanostructure Etching Using Pulsed Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma
신예지, 김희주, 김교운, 오지수, 염근영
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
62 Pulsed biased 적용을 통한 Si와 TiO2 나노구조체의 식각 특성 향상에 대한 연구
김희주, 신예지, 오지수, 김교운, 염근영
한국재료학회 2019년 가을 학술대회