| 25 |
3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma
박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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3D Feature profile simulation of oxygen effects in plasma oxide etching process
박재형, 유혜성, 장원석, 육영근, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Universal surface reaction model with diffusion effect in plasma oxide etching process
유혜성, 임연호, 박재형, 육영근, 유동훈, 최광성
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
| 22 |
Verification of atomic-scale simulations with experimental data in plasma oxide etching process
박재형, 장원석, 유혜성, 육영근, 임연호
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
| 21 |
Simulation of charge-up coupled with universal surface reaction model in plasma process
유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호, 최광성
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
| 20 |
Diffusion effects of surface reaction model under the fluorocarbon plasma
오민주, 박재형, 유혜성, 육영근, 임연호
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Bridging technology between molecular dynamic simulation and density function theory for plasma etching process
박재형, 육영근, 유혜성, 오민주, 장원석, 배성민, 임연호
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Universal surface reaction model for fluorocarbon plasma processes for silicon, silicon oxide, and silicon nitride substrate
오민주, 임연호, 유혜성, 박재형, 육영근
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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3D Feature profile simulation for the oxide etching under the pulsed fluorocarbon plasma
박재형, 유혜성, 육영근, 오민주, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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Universal plasma etch reaction modeling for fluorocarbon plasma processes
유혜성, 임연호, 육영근, 박재형, 유동훈, 윤국현
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |
