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Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor
임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor
김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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Engineering the high-crystalline SnS and SnS2 thin films, and their FET characteristics
최형수, 신석윤, 이주현, 박현우, 이남규, 정찬원, 조해원, 송석휘, 전형탁
한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Modification of barrier height of metal and silicon with nanoparticles and insulator
김현정, 장우출, 임희우, 권영균, 방민욱, 조해원, 정찬원, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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Enhanced crystallinity of VO2 thin film by post annealing
김범식, 장우출, 정찬원, 조해원, 김현정, 임희우, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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3Characteristic of the contact resistivity of the metal/insulator/silicon structure
김현정, 장우출, 임희우, 권영균, 조해원, 정찬원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer
장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
