| 번호 | 제목 |
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Surface modification for deactivation effect using CH4 plasma treatment 김영준, 정찬원, 송석휘, 전형탁 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor 임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer 장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
