화학공학소재연구정보센터
번호 제목
25 Plasmonics on chip for nanoscale imaging and sensing 
Kyujung Kim
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회
24 Surface and Interface Engineering of Two Dimensional Semiconductor via non-covalent approaches.
Park, Jun Hong, Atresh Sanne, Sara Fathipour, Yuzheng Guo, Matin Amani, Ali Javey, John Robertson, Sanjay K. Banerjee, Alan Seabaugh, Andrew C. Kumme
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
23 Comparative Study on the Electrical Characteristics between Gate-First and Gate-Last Like Processed MOS Devices
Hoon Hee Han, Donghwan Lim, Yu-Rim Jeon, Jae Ho Lee, Changhwan Choi
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
22 Crystallinity and energy band structure of atomic layer deposited ZrO2 films using Cp-Zr precursor
Hyoseok Song, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
21 Polished & Epitaxial Si Wafer에서 Al2O3 MOS Gate Stack 특성 비교
박유민, 김진서, 서형탁
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
20 Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices
임동환, 정우석, 최창환
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
19 La2O3/HfO2 나노 층상구조를 이용한 MIM capacitor의 특성 향상
오일권, 김민규, 박주상, 김형준
한국재료학회 2012년 봄 학술대회
18 BCl3 Gas와 Ar Neutral Beam을 이용한 High-k Dielectric Material의 초정밀 저손상 원자층 식각
김찬규, 민경석, 염근영
한국재료학회 2012년 봄 학술대회
17 리모트 플라즈마 원자층 증착 기술 및 high-k 응용
Hyeongtag Jeon, Hyungchul Kim
한국재료학회 2010년 봄 학술대회
16 S-termination된 Ge(100)표면에 증착된 ALD HfO2 특성
임경택, 이영환, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회