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Plasmonics on chip for nanoscale imaging and sensing Kyujung Kim 한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
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Surface and Interface Engineering of Two Dimensional Semiconductor via non-covalent approaches. Park, Jun Hong, Atresh Sanne, Sara Fathipour, Yuzheng Guo, Matin Amani, Ali Javey, John Robertson, Sanjay K. Banerjee, Alan Seabaugh, Andrew C. Kumme 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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Comparative Study on the Electrical Characteristics between Gate-First and Gate-Last Like Processed MOS Devices Hoon Hee Han, Donghwan Lim, Yu-Rim Jeon, Jae Ho Lee, Changhwan Choi 한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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Crystallinity and energy band structure of atomic layer deposited ZrO2 films using Cp-Zr precursor Hyoseok Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Polished & Epitaxial Si Wafer에서 Al2O3 MOS Gate Stack 특성 비교 박유민, 김진서, 서형탁 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices 임동환, 정우석, 최창환 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
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La2O3/HfO2 나노 층상구조를 이용한 MIM capacitor의 특성 향상 오일권, 김민규, 박주상, 김형준 한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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BCl3 Gas와 Ar Neutral Beam을 이용한 High-k Dielectric Material의 초정밀 저손상 원자층 식각 김찬규, 민경석, 염근영 한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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리모트 플라즈마 원자층 증착 기술 및 high-k 응용 Hyeongtag Jeon, Hyungchul Kim 한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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S-termination된 Ge(100)표면에 증착된 ALD HfO2 특성 임경택, 이영환, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |