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3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma
박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Bridging technology between molecular dynamic simulation and density function theory for plasma etching process
박재형, 육영근, 유혜성, 오민주, 장원석, 배성민, 임연호
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Surface reaction modeling for oxygen effect in fluorocarbon plasma etch process
유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호, 박재형
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
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반도체 습식 세정 기술 개발 동향 및 계면화학을 응용한 세정제 개발
송명근
한국공업화학회 2018년 봄 학술대회 |
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Molecular Dynamic Simulation for Contact Hole Etching Process under Fluorocarbon plasma
육영근, 유혜성, 최광성, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Influence of non-corrosive etch gases containing C, H, and O elements on magnetic properties of CoPt superlattice
이재용, 최재상, 조두현, 정지원
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Real-time Multivariate Model Predictive Control of Plasma Etch Process
박담대, 구준모, 하대근, 유상원, 노현준, 한종훈
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회 |
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Advanced 3D feature profile simulation with a realistic plasma surface reaction model
육영근, 임연호, 유혜성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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3D Charge-up simulation coupled with realistic plasma surface reaction model in plasma etch process
유혜성, 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성, 임연호
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
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Control Strategies for Plasma Etching Process of Si in SF6/O2
한종훈, 구준모, 하대근, 박담대
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
