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번호	제목
15	Etching of SiO₂ in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
14	Angular dependence of SiO₂ etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
13	Effect of mixing ratio in SiO₂ etching using hydrofluoroether plasmas 선은재, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
12	GWP가 낮은 C₃F₆O/Ar 가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구 김수강, 양경채, 신예지, 성다인, 탁현우, 염근영 한국재료학회 2018년 봄 학술대회
11	Dependence of SiO₂ etch rates on the ion-incident angle at various bias voltages in a C₄F₈ plasma 박창진, 김창구 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
10	Etch mechanism of Si₃N₄ in a C₄F₆/Ar/O₂/CH₂F₂ plasma 조성운, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
9	Angular dependence of Si₃N₄ etch rates in fluorocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
8	Effect of bias voltage on the angular dependence of SiO₂ etch rates in C₄F₈ plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
7	Angular dependence of SiO₂ etch rate in fluorocarbon plasmas 김준현, 조성운, 김창구 한국화학공학회 2014년 가을 학술대회
6	Effect of F/C ratio in discharge gases on the angular dependence of etch rates of SiO₂ 조성운, 김창구 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회