| 번호 | 제목 |
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Molecular Dynamic Simulation for Contact Hole Etching Process under Fluorocarbon plasma 육영근, 유혜성, 최광성, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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Effect of F/C ratio in discharge gases on the angular dependence of etch rates of SiO2 조성운, 김창구 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
