| 번호 | 제목 |
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| 5 |
SiNx deposition using CSN-2 and H2 and N2 plasmas by remote plasma atomic layer deposition Suhyeon Park, Chanwon Jung, Byunguk Kim, Jungwoo Kim, Yurim Kwon, Seokhwi Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2019년 봄 학술대회 |
| 4 |
Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor 임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
| 3 |
Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition 권영균, 전형탁 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
| 2 |
Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 1 |
9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer 김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
