| 352 |
Anionic polymerization of hydroxy protected monomers for photoresist application
신동진, 류상욱
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 351 |
Photothermally Cross-linked Hexanuclear Oxozirconium Cluster as an Organic-Inorganic Hybrid Dielectric Material
가혜 김, 김명길
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 350 |
Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography
Yeo Kyung Kang, 김명길
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 349 |
Designing 3D Polymer Nanostructure through Capillary Wetting on Colloidal Monolayer
이형준, 박상혁, 김신현
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 348 |
높은 내식각성을 갖는 EUV lithography(EUVL)용 고불소화 주석산화물 레지스트의 합성 및 리소그래피 특성 평가
안형주, 우지훈, 구예진, 이진균
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 347 |
Metal Chalcogenide based- Photoresists with Chemical Amplified Ligand
전승주, 김예진, 황도훈, 김명길, 임보규
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
| 346 |
Designing Pseudo-3D Polymeric Nanostructure using Capillary Wetting on Colloidal Monolayer
이형준, 김신현
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
| 345 |
고체산 촉매의 에스테르화 반응을 이용한 HBM (Methyl 2-Hydroxyisobutyrate) 합성에 관한 연구
김상원, 윤지민, 정민경, 정헌도, 정지철
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
| 344 |
Anionic polymerization of 4-hydroxystyrene-based protected monomers and physical properties.
신동진, 류상욱
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
| 343 |
수용성 포토레지스트 합성 및 포토리소그래피 패턴 형성
유정우, 이수빈, 최재학
한국공업화학회 2022년 봄 학술대회 |
