화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography
Yeo Kyung Kang, 김명길
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회
1 높은 내식각성을 갖는 EUV lithography(EUVL)용 고불소화 주석산화물 레지스트의 합성 및 리소그래피 특성 평가
안형주, 우지훈, 구예진, 이진균
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회