| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2017년 가을 (10/11 ~ 10/13, 제주컨벤션센터) |
| 권호 | 42권 2호 |
| 발표분야 | 고분자가공/복합재료 |
| 제목 | 반응 표면 방법론을 이용한 Poly Dicyclopentadiene의 반응 사출 성형 최적화 및 분석 |
| 초록 | polydicyclopentadiene (PolyDCPD)의 반응 사출 성형 (RIM) 공정 조건은 반응 표면 방법론 (RSM)의 Box-Behnken 디자인 (BBD)을 사용하여 최적화되었습니다. 연기 시간, 발열 시간, 최고 발열 및 PolyDCPD 변환과 같은 RIM 프로세스 매개 변수는 변수 (촉매, 조 촉매 및 감속재의 양)를 변경하여 조정되었습니다. 최적화 된 조건 하에서, DCPD의 RIM 중합 반응은 100 초 이내에 일어나지 않았고, 최대 온도는 4 분 이내에 도달하였으며, Poly DCPD 전환율은 98 % 이상이었다. 따라서, DCPD는 6 분 미만의 총 사이클 시간에서 금형에 안전하게 넣을 수 있으며 산업 분야에 충분한 기계적 성질을 갖는 PolyDCPD를 생산할 수 있다. |
| 저자 | 정예지, 김현국, 손혜정, 조득희, 이승배 |
| 소속 | 한국화학(연) |
| 키워드 | PolyDCPD; DCPD; Ring-Opening Metathesis |
