| 초록 |
저에너지 전자가속기( < 300 keV)는 자체차폐 가능, 구축비용 저렴, 운영 용이 및 소형화가 가능하여 물리화학 반응에 다양하게 활용할 수 있는 강력한 에너지원이다. 하지만 저에너지 전자가속기는 가속에너지가 200~300 keV로 낮아 물을 기준으로 투과깊이가 300~500um 불과하여 시료의 표면처리나 코팅 등에 제한적으로 이용되며, 산업적으로 활용도는 크지 않다. 저에너지 전자가속기가 가진 장점들은 이러한 제한들을 상쇄할 수 있을 만큼 방사선 및 전자선 기술의 산업화에 매우 중요한 요소라 할 수 있다. 전자빔의 투과깊이는 타켓물질의 밀도에 반비례하므로 공기와 같은 저밀도 물질의 투과깊이는 수십cm이상 확보 할 수 있어 산업적 활용에 아주 효과적이라 할 수 있다. 본 연구는 200 keV 전자가속기를 이용하여 산업현장에서 배출되는 악취원인물질을 원천제거 할 수 있는 전자선 공정기술 시스템이다. 유입되는 악취 초기농도가 44,814 OU[Odor Unit]에서 전자빔 처리 후 100 OU로 제거효율이 99% 이상이다. 이때 전자빔 에너지와 인가전류는 다양하게 하였고, 악취유량은 22CMM[Cubic Meter per Minute]이다. 이는 전자빔에 의해 악취원인 물질이 거의 대부분 제거 되었다는 것을 의미하며 GC-MS를 이용한 기기분석에서도 동일한 결과를 얻을 수 있었다. |
